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耐久性、耐熱性、耐候性に優れています。低分子シロキサンの揮散がほとんどありません。接着性に優れています。別売のプライマーにより下地処理を施すことにより接着性が向上します。半導体および各種精密電子材料の製造・加工関連クリーンルームの内装目地に。
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耐久性、耐熱性、耐候性に優れています。低分子シロキサンの揮散がほとんどありません。接着性に優れています。別売のプライマーにより下地処理を施すことにより接着性が向上します。半導体および各種精密電子材料の製造・加工関連クリーンルームの内装目地に。